Logo
Uniopèdia
Comunicació
Disponible a Google Play
Nou! Descarregar Uniopèdia al dispositiu Android™!
Gratis
Accés més ràpid que el navegador!
 

Disposició de circuits integrats

Índex Disposició de circuits integrats

Vista de disseny d'un simple amplificador operacional CMOS. La disposició de circuits integrats, també coneguda com a disseny de IC, disseny de màscara IC o disseny de màscara, és la representació d'un circuit integrat en termes de formes geomètriques planes que corresponen als patrons de capes metàl·liques, òxids o semiconductors que formen els components del circuit integrat.

18 les relacions: Cèl·lula estàndard, Circuit integrat, Design rule check, Diòxid de silici, ECAD, Extracció de paràsits electrònics, Fabricació de circuits integrats, Forma geomètrica, Fotolitografia (electrònica), GDSII, Layout Versus Schematic, Màscara fotogràfica, Metall, Planta de fabricació de semiconductors, Polígon, Preparació de dades de màscara, Semiconductor, Verificació física electrònica.

Cèl·lula estàndard

Representació d'una petita cel·la estàndard amb tres capes metàl·liques (s'ha eliminat el dielèctric). Les estructures de color sorra són interconnectades metàl·liques, i els pilars verticals són contactes, normalment taps de tungstè. Les estructures vermelloses són portes de polisilici, i el sòlid de la part inferior és la massa de silici cristal·lí. En el disseny de semiconductors, la metodologia de cèl·lules estàndard és un mètode de disseny de circuits integrats d'aplicació específica (ASIC) amb característiques majoritàriament de lògica digital.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Cèl·lula estàndard · Veure més »

Circuit integrat

Tres xips dau del circuit integrat al suport. Un circuit integrat (també conegut com a xip o microxip) és una pastilla o xip on es troben tots els components electrònics necessaris per complir una funció.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Circuit integrat · Veure més »

Design rule check

Les comprovacions bàsiques de DRC: amplada, espaiat i tancament Design rule check (comprovació de regles de disseny, amb acrònim anglès DRC) és un procés en l'automatització del disseny electrònic per a garantir que els dissenyadors no violin les regles de disseny.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Design rule check · Veure més »

Diòxid de silici

El compost químic conegut com a diòxid de silici o sílice és l'òxid de silici, amb fórmula química SiO₂, que es troba més freqüentment a la natura com el quars i en diversos organismes vius.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Diòxid de silici · Veure més »

ECAD

Fig.1 Exemple de programari per a disseny de PCBs ECAD (acrònim anglès de electronic computer-aided design) és una categoria d'eines de programari per a dissenyar sistemes electrònics tals com circuits electrònics i circuits impresos o PCB.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і ECAD · Veure més »

Extracció de paràsits electrònics

Captura de pantalla de programari amb LVS. En l'automatització del disseny electrònic, l'extracció de paràsits electrònics és el càlcul dels efectes paràsits tant en els dispositius dissenyats com en les interconnexions de cablejat requerides d'un circuit electrònic: capacitats paràsites, resistències paràsites i inductàncies paràsites, comunament anomenats dispositius paràsits, components paràsits o simplement paràsits.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Extracció de paràsits electrònics · Veure més »

Fabricació de circuits integrats

Sala neta de la NASA. La fabricació de circuits integrats és un procés complex i en el qual intervenen nombroses etapes.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Fabricació de circuits integrats · Veure més »

Forma geomètrica

Forma geomètrica, el sentit més simple i probablement originari de la paraula forma fa referència a la figura espacial dels cossos materials sòlids.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Forma geomètrica · Veure més »

Fotolitografia (electrònica)

1349x1349px Fotolitografia (també, litografia òptica o litografia UV), en electrònica, és un procés utilitzat en microfabricació mitjançant l'estampació fotoquímica sobre un substrat de silici anomenat oblia. La fotolitografia fa servir la llum per transferir un model geomètric extremadament petit des d'una fotomàscara a un substrat sensible a la llum.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Fotolitografia (electrònica) · Veure més »

GDSII

El format GDSII (acrònim anglès de Graphic Design System) és un tipus de codificació d'imatges 2D en format binari i de tipus no obert (amb drets d'autor).

Nou!!: Disposició de circuits integrats і GDSII · Veure més »

Layout Versus Schematic

Captura de pantalla de programari amb LVS. El Layout Versus Schematic (Emplaçament envers esquemàtic, amb acrònim anglès LVS) és la classe de programari de verificació d'automatització del disseny electrònic (EDA) que determina si un disseny de circuit integrat particular correspon a l'esquema o diagrama de circuit original del disseny.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Layout Versus Schematic · Veure més »

Màscara fotogràfica

Una fotomàscara Il·lustració esquemàtica d'una fotomáscara (a dalt) i un circuit integrat (a baix) creat amb aquesta màscara. Una màscara fotogràfica, fotomàscara (o simplement màscara, depenent del context) és una pel·lícula amb àrees transparents i zones opaques, que deixen que la llum passi o no passi en un procés d'insolació fotogràfica.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Màscara fotogràfica · Veure més »

Metall

pàgines.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Metall · Veure més »

Planta de fabricació de semiconductors

oblia de silici gravada Una planta de fabricació de semiconductors (en anglès: semiconductor fabrication plant) o fab, és una fàbrica on es produeixen circuits integrats.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Planta de fabricació de semiconductors · Veure més »

Polígon

Exemples de diferents tipus de polígons En geometria, un polígon és una figura plana formada per un nombre finit de segments lineals seqüencials (línia poligonal).

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Polígon · Veure més »

Preparació de dades de màscara

Passos principals en el flux de disseny de CI, on es pot veure el procés de MDP al pas número 7. La preparació de dades de màscara (amb acrònim anglès MDP), també coneguda com a postprocessament de disseny, és el procediment per traduir un fitxer que conté el conjunt previst de polígons d'una disposició del circuit integrat en un conjunt d'instruccions que un gravador de màscara fotogràfica pot utilitzar per generar una màscara física.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Preparació de dades de màscara · Veure més »

Semiconductor

Un semiconductor és un material que es comporta com un aïllant a molt baixa temperatura, però que presenta certa conductivitat elèctrica a temperatura ambient essent possible de controlar aquesta conductivitat per mitjà de l'addició d'impureses.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Semiconductor · Veure més »

Verificació física electrònica

Passos principals en el flux de disseny de CI, on es pot veure el procés de verificació física al pas 6. La verificació física és un procés mitjançant el qual es verifica el disseny d'un disseny de circuit integrat (disseny IC) mitjançant eines de programari EDA per garantir la funcionalitat i la fabricació elèctrica i lògica correctes. La verificació inclou la comprovació de regles de disseny (DRC), disseny versus esquema (LVS), XOR (OR exclusiu), comprovacions d'efecte antena i comprovació de regles elèctriques (ERC).A. Kahng, et al.: VLSI Physical Design: From Graph Partitioning to Timing Closure,,, p. 10.

Nou!!: Disposició de circuits integrats і Verificació física electrònica · Veure més »

SortintEntrant
Hey! Estem a Facebook ara! »